光學鍍膜如何運用在硅膠制品行業里
硅膠制品光鍍是指將金屬(或介質)膜(或多層金屬)鍍在光學零件表面的工藝過程。光電器件表面鍍膜的目的是達到減少或增加光的反射性、分束性、分色性、濾光性和偏振性等。通常采用的鍍膜方法是真空鍍(物理鍍)和化學鍍。
光涂層原理:
負壓電鍍主要是指需要在較高真空下進行電鍍,包括真空離子蒸發、磁控濺射、 MBE分子束外延、 PLD激光濺射沉積等,所以。蒸發器和濺射器通用。用鍍層材料制成基材,用鍍層材料作為靶材或藥材?;w和靶體在同一真空狀態下。
蒸發層通常是加熱的目標,將表面成分蒸發成自由基或離子,然后通過合成沉積在基底上,膜層上。關于濺射涂層,很容易理解,目標材料被電子或高能激光轟擊,表面成分以自由基或離子的形式濺射,最后沉積在基體表面,形成薄膜。
常用光學涂層材料有以下幾種:
無色晶系粉末,純度高,用它制備光學鍍膜,能提高透光性,不產生崩點。
高熔點、硬度、化學穩定性良好的無色透明晶體。采用該工藝制備的優質Si02涂層,具有良好的蒸發狀態,無崩點。按用途可分為紫外線、紅外線和可見光用。
重質結晶態,折射率高,耐高溫性好,化學性質穩定,純度高,可制得優質氧化鋯涂層,無崩點。
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